1. 招標條件
本招標項目PECVD設備 該項目已具備招標條件，現對PECVD設備采購進行國內公開招標。2. 項目概況與招標范圍
2.1 招標編號：ZKX20240101A002 2.2招標項目名稱：PECVD設備。 2.3 數量：1臺。 2.4 項目概述：PECVD設備主要用于氧化硅、氮化硅膜的沉積。 2.4.1 可生長SiO2、Si3N4； 2.4.2 適用基片尺寸：150mm（6吋）Notch wafer；100mm（4吋）Flat Wafer。 2.5 交貨 2.6 交貨期：合同簽字生效后10個月貨到用戶成都項目現場。3. 投標人資格要求
3.1 投標人須為具有獨立承擔民事責任能力的在中華人民共和國境內注冊的法人或其他組織，具備有效的營業執照或事業單位法人證書或其它營業登記證書。 3.2投標人須提交開標前三個月內其基本帳戶 3.3 投標人須提供近三年無重大違規行為的承諾，格式自擬。 3.4 本次招標不接受聯合體投標。 3.5 本次招標接受代理商投標。若投標人為代理商，則需提供制造商針對本次投標設備出具的有效授權函，且同一品牌同一型號僅能委托一家投標單位參與投標。 3.6投標人必須向招標代理機構4.
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編輯：365trade