青海黃河上游水電開發(fā)有限責(zé)任公司太陽能電池及組件研發(fā)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備采購項(xiàng)目集中招標(biāo)（重新）招標(biāo)公告

1

適用基材

透明導(dǎo)電玻璃、硅片等基材

2

適用基材尺寸

玻璃≥400mm×400mm，硅片≥166mm×166mm

3

涂膜面積

玻璃有效涂膜面積≥380×380mm，硅片需滿涂

4

固含量

5-75%

5

適用基材厚度

玻璃：1.1~3.5mm

硅片：0.1~0.3mm

6

涂布厚度

0.1-10μm（干膜）

7

涂布速度

0-100mm/s，速度可調(diào)，速度精度0.1mm/s

8

涂布方式

狹縫涂布

9

薄膜均勻性

片內(nèi)薄膜不均度≤5%（采用9點(diǎn)測試法，以上、下、左、右、中心9點(diǎn)為測量基準(zhǔn)，計(jì)算方式為Ui=(Umax-Umin)/(Umax+Umin)，U為膜厚），片間薄膜不均勻度≤3%（計(jì)算方式為Ui=(Uavgmax-Uavgmin)/(Uavgmax+Uavgmin)，U為膜厚），玻璃背面無污染。（設(shè)備連續(xù)工作10個工作日均滿足）

10

適用溶劑體系

水性、油性、有機(jī)溶劑等溶劑型涂料

11

設(shè)備配備雙龍門

每套龍門各配一套模頭、一套供液系統(tǒng)

12

涂硅片

設(shè)備可通過更換“吸附平臺、模頭”等組件的方式，切換為涂覆硅片的設(shè)備。所需的吸附平臺及模頭由廠家配齊

13

硅片取放

設(shè)備配備頂升裝置，便于取放硅片

14

預(yù)涂功能

設(shè)備配備預(yù)涂區(qū)域或預(yù)涂輥

15

平移系統(tǒng)

保證龍門或吸附平臺的平穩(wěn)移動，調(diào)平后刀頭與平臺的相對平行度＜20μm

16

涂布模頭

采用流體仿真設(shè)計(jì)涂布模頭，刀頭直線度（R）≤3μm，粗糙度Ra≤0.025；唇口直線度（R）≤3μm，提供第三方專業(yè)檢測報(bào)告

17

模頭數(shù)量配置

涂玻璃模頭配備2個，涂硅片模頭配備1個

18

涂布模頭材質(zhì)

不銹鋼合金，具有良好的耐腐蝕性能，可拆卸清洗，防形變

19

模頭升降

模頭升降采用高精度伺服電機(jī)方式驅(qū)動；可自動調(diào)整唇口與被涂基材的間隙。涂膜高度依基板厚度自動調(diào)節(jié)，可手動設(shè)置補(bǔ)償功能。左右兩側(cè)可自動調(diào)平（調(diào)節(jié)模頭唇口與被涂基板的平行度），自動調(diào)平后，狹縫模頭水平校準(zhǔn)誤差精度≤±2μm

20

墊片厚度

0.05/0.08/0.1mm

21

功能模塊

涂布模頭具有防撞、快速充液和排泡功能（快速充液和排泡功能滿足對供液泵、模頭及管路進(jìn)行充液和排泡。從空模頭、空漿料罐狀態(tài)到可進(jìn)行涂膜狀態(tài)之間間隔不得超過10min）

22

基臺及材質(zhì)

整機(jī)攜有大理石承重減震基底平臺

23

基材測距

每次涂膜前，可自動檢測當(dāng)前基板高度（厚度），同一片基板高度（厚度）檢測誤差≤3μm

24

注液泵

注液泵應(yīng)能保證漿料擠出均勻連續(xù)，確保涂膜一致性，其速度精度優(yōu)于0.1μl/s；供液速度在1-500μl/s，速度可調(diào)；具備自動補(bǔ)液、補(bǔ)液后自動泄壓及回吸功能

25

自動清洗模塊

設(shè)備具備自動清洗模頭功能，自動清洗后，必須保證無藥液殘留，管路及型腔內(nèi)部無明顯液體凝聚現(xiàn)象；設(shè)置模頭清洗區(qū)域，配備壓刀槽和排液槽，配合上述自動清洗功能和快速充液、排泡功能

26

吸附平臺

表面平整度≤±5μm，平臺集成真空吸附系統(tǒng)，大小可調(diào)

27

儲液罐及管路

需采用耐腐蝕材料，液體管路需使用半透明材質(zhì)

28

質(zhì)量保證

涂布過程中，需要通過程序?qū)崟r控制注液情況，以確保在涂布前端及涂布結(jié)束后，不能出現(xiàn)涂布頭滴液情況

29

防塵和尾廢

設(shè)備配備防塵罩及FFU過濾系統(tǒng)，內(nèi)部潔凈度保證在千級；配備三色燈及揮發(fā)溶劑排風(fēng)口；機(jī)臺具有防液體潑灑特性，避免漿料侵入設(shè)備內(nèi)部，損壞內(nèi)部關(guān)鍵元器件

30

模頭拆裝平臺

需設(shè)計(jì)模頭拆裝平臺，調(diào)平后的平臺平整度≤10μm。此外，需要配備專用刀頭分解和內(nèi)部清洗工裝及工具，確定清洗頻次及方法

31

控制方式

高清觸摸屏控制，帶有配方存儲功能，可保存20組以上成熟的工藝參數(shù)；可設(shè)置各系統(tǒng)功能的啟停、運(yùn)動軸參數(shù)；操作方便簡單

1

適用基材

透明導(dǎo)電玻璃、硅片等基材

2

適用基材尺寸

玻璃≥400mm×400mm，硅片≥166mm×166mm

3

抽氣速率

大氣壓至10pa：t≤10s，抽真空速度可調(diào)；最低可抽至0.8pa

4

破真空

破真空時間需控制在3-10s

5

破真空使用氣體

氮?dú)饣蛘邏嚎s空氣

6

真空泵

進(jìn)口或同等級國產(chǎn)一流品牌干泵，真空泵開啟可在控制臺操作

7

水冷機(jī)

設(shè)備自帶用于給真空泵冷卻的水冷機(jī)

8

真空計(jì)

雙真空計(jì)或雙量程真空計(jì)，用以檢測大氣壓至低壓，并在低壓區(qū)域的量程保證一定精度

9

抽氣方式

上抽式設(shè)計(jì)，需配備勻流板，減弱膜面氣流擾動

10

控制方式

高清觸摸屏控制（或顯示器+鍵盤+鼠標(biāo)）；可設(shè)置VCD的快慢抽時間、保壓時間等參數(shù)；工藝參數(shù)可分別編號存儲和導(dǎo)出，具備工藝歷史記錄查看功能

11

安全裝置

防止過高真空造成設(shè)備損壞，設(shè)有自動壓力調(diào)節(jié)與安全閥功能

12

功能配置

配有防倒吸，廢氣收集或過濾系統(tǒng)、破空過濾系統(tǒng)、壓力偵測系統(tǒng)；需額外預(yù)留一個真空泵接口

1

適用基材

透明導(dǎo)電玻璃、硅片等基材

2

適用基材尺寸

≥400mm×400mm，可向下兼容

3

加熱溫度范圍

室溫~250℃

4

加熱器件

設(shè)定3個基材工藝腔體，腔體溫度獨(dú)立控制，腔體單獨(dú)進(jìn)料與出料，每個腔體上下兩個加熱器

5

升溫速率

升溫速率可調(diào)，≥25℃/min

6

溫度精度

±1℃

7

溫度均勻性

±3℃（采用9點(diǎn)測試法，將9個熱電偶貼在基材上，以上、下、左、右、中心9點(diǎn)為測量基準(zhǔn)，進(jìn)行溫度均勻性測試）

8

尾氣

工藝過程中能有效均勻排出揮發(fā)的有機(jī)廢氣，排氣速率可調(diào)

9

保護(hù)氣體

設(shè)備可接入氮?dú)獗Ｗo(hù)氣體，配有預(yù)熱腔，確保保護(hù)氣體充分預(yù)熱

10

隨機(jī)工具

附帶取放料工具，避免燙傷

1.1

真空鍍膜室

1.1.1

材料及結(jié)構(gòu)

真空室采用304不銹鋼，腔體內(nèi)壁電解拋光處理，減少表?放?；須保留前后門，便于對腔體內(nèi)部進(jìn)行維護(hù)

1.1.2

觀察窗

由保護(hù)玻璃、硬質(zhì)玻璃組合而成，需符合X射線防護(hù)國家標(biāo)準(zhǔn)

1.1.3

腔體漏率

漏率優(yōu)于5.0×10-10Pa.m3/S，保壓12小時后，壓強(qiáng)≤5Pa。

1.2

蒸鍍真空系統(tǒng)

1.2.1

極限真空度

系統(tǒng)潔凈、空置時優(yōu)于5×10-5pa

1.2.2

分子泵

抽氣速率不小于3000L/s

1.2.3

機(jī)械泵

抽氣速率不小于25m3/h

1.2.4

真空測量時間

大氣環(huán)境萬級潔凈間氛圍下從常壓抽至≤5×10-4pa時間≤30min；

1.2.4

極限真空測量

測量范圍從1×105Pa到5.0×10-5Pa

1.2.4

真空密封

采用金屬密封和氟橡膠圈密封

1.3

蒸發(fā)室基片裝置

1.3.1

基片材料

導(dǎo)電玻璃

1.3.2

樣品尺寸

400mm×400mm的樣品且可向下兼容更多尺寸

1.3.3

基片托盤

通過電機(jī)旋轉(zhuǎn)0~30rpm可調(diào)

1.4

蒸發(fā)源和蒸發(fā)電源

1.4.1

蒸發(fā)源

配備2組金屬蒸發(fā)源和4組有機(jī)蒸發(fā)源，可兼容蒸鍍金屬、有機(jī)及無機(jī)材料；源與源之間均配有防止交叉污染的防污板

1.4.2

金屬蒸發(fā)電源

配備可編程的直流穩(wěn)壓金屬蒸發(fā)電源1套，金屬蒸發(fā)電源功率≥1.5KW及以上，最高升溫溫度可達(dá)1500℃，且通過電流控制方式，精確到0.1A，并實(shí)現(xiàn)蒸鍍速率0.01?/s的精度顯示，可進(jìn)行電流、電壓模式的任意切換和具有水冷控制

1.4.3

有機(jī)蒸發(fā)電源

配備有機(jī)蒸發(fā)電源1套；可通過電流或PID智能溫控方式進(jìn)行控制（采用電流控制方式時需精確到0.1A，并實(shí)現(xiàn)蒸鍍速率0.01?/s的精度顯示，可進(jìn)行電流、電壓模式的任意切換和具有水冷控制；采用PID智能溫控方式時控溫精度±1℃）；

1.4.4

控制系統(tǒng)

采用PLC+PC控制方式

1.4.5

安全保護(hù)措施

缺水欠壓檢測與保護(hù)、相序檢測與保護(hù)、溫度檢測與保護(hù)、真空系統(tǒng)檢測與保護(hù)。對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；完善的程序互鎖，完備的防誤操作設(shè)計(jì)及保護(hù)。

1.5

膜厚監(jiān)測系統(tǒng)

1.5.1

膜厚儀

不少于1組膜厚儀，不少于2套膜厚檢測探頭

1.5.2

蒸發(fā)速率測量精度

0.1~0.5A/s(≤±10%)，0.6~10.0A/s(≤±5%)

1.5.3

膜厚儀測量精度

膜厚儀測量精度優(yōu)于±0.01?/s，若鍍膜達(dá)到設(shè)置厚度，可自動切斷電源，停止鍍膜且擋板關(guān)閉

1.5.4

溫度控制精度

±1℃（RT~700℃）

1.5.5

厚度測量精度

優(yōu)于±1?；具備與電源聯(lián)鎖功能

1.5.6

片內(nèi)膜厚不均勻性

≤5.0%（樣品尺寸400mm×400mm，且在20nm~100nm范圍內(nèi)的薄膜材料：包括但不限于金、銀、銅、鋁、C60、BCP、LiF2、MgF2等材料，且由招標(biāo)方指定材料進(jìn)行驗(yàn)證），測試方法：薄膜有效區(qū)范圍內(nèi)3×3排列9點(diǎn)測量：不均勻性=（膜厚最大值-膜厚最小值）/（膜厚最大值+膜厚最小值）*100%

1.5.7

片間膜厚不均勻性

≤5.0%（樣品尺寸400mm×400mm，且在20nm~100nm范圍內(nèi)的薄膜材料：包括但不限于金、銀、銅、鋁、C60、BCP、LiF2、MgF2等材料，且由招標(biāo)方指定材料進(jìn)行驗(yàn)證），測試方法：薄膜有效區(qū)范圍內(nèi)3×3排列9點(diǎn)測量：不均勻性=（膜厚最大值-膜厚最小值）/（膜厚最大值+膜厚最小值）*100%。

1.6

自動鍍膜系統(tǒng)

開啟后根據(jù)用戶設(shè)置的升降溫和蒸發(fā)速率參數(shù)，自動升溫加熱蒸發(fā)材料，按照制定速率蒸鍍，到達(dá)設(shè)定厚度后自動關(guān)閉擋板，并降溫

1.7

水冷系統(tǒng)

1.7.1

冷水機(jī)

控溫范圍：5℃~30℃

1.8

工藝支持

投標(biāo)人提供C60和BCP作為鈣鈦礦器件電子傳輸層的蒸鍍工藝，保證招標(biāo)方在其他薄膜層制備條件不變時采用該工藝制備電子傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池性能不低于招標(biāo)方使用旋涂法制備PCBM和BCP作為電子傳輸層的性能。